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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMD2000管線式硫酸鋇研磨分散機(jī)

    管線式硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點(diǎn): ①線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨 ②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 ③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 ⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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    2025-09-07

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  • GMD2000電阻材料分散機(jī)電阻漿料高剪切分散機(jī)

    電阻材料分散機(jī)電阻漿料高剪切分散機(jī),,漿料分散機(jī),電阻漿料分散機(jī),是以貴金屬為導(dǎo)電相、用于制造厚膜電阻的漿料。主要用作厚膜電阻器、電阻網(wǎng)絡(luò)、混合集成電路以及特殊用途的電阻器和電極。

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  • GDL2000食品單級管線式分散機(jī)

    【食品單級管線式分散機(jī)的概述】 食品單級分散機(jī),可生產(chǎn)粒徑較大但粒徑分布范圍較窄的乳液。它具有較高的剪切率,保證了混合液的穩(wěn)定性。選用不同的分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)組合,可滿足不同的工藝和流體學(xué)要求。

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  • GMD2000納米光觸媒分散機(jī)

    納米光觸媒分散機(jī),光觸媒研磨分散機(jī),納米二氧化鈦分散機(jī),光觸媒超細(xì)分散機(jī),納米分散機(jī),光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱。 在所有的光觸媒材料中,納米TiO2不僅具有很高的光催化活性,且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無毒等優(yōu)點(diǎn),價(jià)格也適中,具有較高的性價(jià)比,因而市場上大多使用納米二氧化鈦?zhàn)鳛橹饕牧稀?/p>

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  • GMD2000辣椒醬分散機(jī)

    辣椒醬分散機(jī)GMD2000系列特別適合于膠體溶液,超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GMD在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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  • GR2000管線式小型分散機(jī)

    【管線式小型分散機(jī)的簡介】 專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā),模擬生產(chǎn)流程,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同,且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同,中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機(jī)器型號升級過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到Z低。

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  • GRS2000硅藻土分散機(jī)

    硅藻土分散機(jī) ,的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。

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  • GRS2000導(dǎo)電漿料均質(zhì)分散機(jī)

    導(dǎo)電漿料均質(zhì)分散機(jī)的設(shè)備特點(diǎn) GRS設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比: 高效,節(jié)能 傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過程,GRS設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散*,能耗極大降低; 高速,高品質(zhì)

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